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  • 相位法光速測量儀

    SGG-1系列相位法光速測量儀適用于科研院所、高等院校物理實驗室的光速測量。實驗裝置內(nèi)調(diào)制被測信號的光強,測量光強調(diào)制波傳播距離變化所引起的相應相位變化,Z終測定光速,并可以擴展測量有機玻璃、人造水晶、無水乙醇等介質(zhì)的折射率。

    更新時間:2025-06-04

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 電光調(diào)制實驗儀

    主要參數(shù): 電光晶體:LiNbO3(鈮酸鋰);光源是半導體激光器;波長650nm;功率≥2.5mW;導軌1000mm;偏振片φ20mm;1/4波片;晶體偏置電壓:0~400V(數(shù)碼顯示),交流內(nèi)調(diào)制信號電壓0-40VPP;頻率1KHZ(連續(xù)可調(diào))

    更新時間:2025-06-04

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 聲光調(diào)制實驗裝置

    1、觀察聲光調(diào)制的衍射現(xiàn)象(布拉格衍射);2、測試聲光晶體的調(diào)制特性;3、調(diào)制晶體:鉬酸鉛晶體;4、調(diào)制方式:橫向調(diào)制;5、調(diào)制電壓:0-40VPP;6、調(diào)制波形:1KHZ正弦波(或其他波形,例如鋸齒波);7、調(diào)制帶寬:20MHZ;8、電源:220±10%,50HZ;9、激光波長:650~680nm;

    更新時間:2025-06-04

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 電子及激光散斑實驗系統(tǒng)

    儀器介紹 本實驗包括激光散斑照相和電子散斑干涉兩部分。利用二次曝光散斑圖進行物體表面面內(nèi)位移場的測試,以及由此引伸出來的應變、應力場測試、距離、速度測試、物體內(nèi)在缺陷和振動分析是散斑效應Z有前途的應用領域。利用電子散斑干涉對物體離面位移進行測量,同時對傳統(tǒng)的干版曝光和計算機圖形處理兩種方法作比較,以加深對散斑干涉的理解。

    更新時間:2025-06-03

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 激光散斑照相實驗裝置

    儀器介紹 利用二次曝光散斑圖進行物體表面面內(nèi)位移場的測試,以及由此引伸出來的應變,距離,速度測試,物體內(nèi)在缺陷和振動分析是散斑效應Z有前途的應用領域。 實驗內(nèi)容 1、拍攝自由空間散斑和成像散斑圖,了解激光散斑現(xiàn)象及其特點 2、掌握二次曝光散斑圖的逐點分析和全場分析測物體面內(nèi)位移的方法

    更新時間:2025-06-03

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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